阴极溅射镀膜原理

阴极溅射镀膜是一种在真空环境下进行的金属表面处理技术。其原理如下：
靶材是导体，放电的工作气体是氩气。在直流溅射镀膜装置中，阴极靶和阳极分别由直流电机带动。
为了达到所需的沉积效果，通常需要使用阴极辅助加热、反应室或真空舱来实现所需真空度。
通常使用高能离子束轰击金属阴极，以剥离阴极表面原子。这些离子可以来自于离子源，如离子枪，通过加速器加速并聚焦形成束流。
当高能离子击中阴极后，会使阴极表面的原子溅射，并以高速沉积到靶材上，形成薄膜。
在阴极溅射过程中，通常需要使用阴极辅助加热以排除阴极表面的气体和杂质，并控制薄膜的组成和结构。#002191#$劲嘉股份(sz002191)$