光刻胶正宗次新股，格林达！

打破国际垄断！TMAH 显影液产能最高的SEMI G4生产商，国内市占率近44%，已出口日韩，主要境外客户为LG


目前常用的光刻胶显影液有四甲基氢氧化铵（TMAH）、氢氧化钾（KOH） 等，其中 TMAH纯度高，金属离子含量低，显影清洗后基本不留金属 痕迹，显影效果最好。

TMAH 显影液为LCD、OLED显示面板生产的关键材料，2004年公司TMAH 显影液一举打破了国外企业的垄断地位，填补了国内空白，目前公司 TMAH 显影液已达到 SEMI G4 的级别（最高级为G5）, 可满足超大规模集成电路（IC）的品质需求，并正着力开展 SEMI G5 等级产品的研发。