全球晶圆制造设备供应商中排名第三
专用芯片制造设备供应商中排名第四
VLSI Research发布的客户满意度调查是由全球各地区的客户对它们全球的半导体设备和子系统的供应商进行匿名反馈的一项调查活动。
中微董事长兼首席执行官尹志尧博士表示,我们很高兴客户能够从中微刻蚀和MOCVD产品的性能、生产效率、质量和成本优势中认可中微的价值并从中获益。
深受用户欢迎的中微半导体是一家什么公司呢?中微半导体是中国大陆第一台电介质刻蚀机的创造者。
中微半导体设备(上海)有限公司成立于2004年5月31日,致力于为全球集成电路和LED芯片制造商提供领先的加工设备和工艺技术解决方案,助力客户提高技术水平、提高生产率并降低生产成本。
公司自成立以来深耕刻蚀机领域,在介质刻蚀设备、硅通孔刻蚀设备、MO
CVD设备领域成功进入海内外重要客户供应链。
中微半导体成立时,正值集成电路工艺正从铝导线向铜导线转移,金属刻蚀的需求迅速萎缩。公司认定介质刻蚀设备将是未来的主流。于是通过全新的工艺和技术,以自主创新的介质刻蚀设备为突破口,抢占被国际巨头垄断的市场地位。
公司和5个国家地区的15个专利事务所合作,建立了严格的专利和知识产权管理制度。公司专利申请达1157项,已经获得了748项专利,还有409项正在申请。
中微半导体坚持自主创新,但在公司的产品威胁到早已瓜分完毕的既定市场时,不可避免的遭到来自竞争对手的知识产权阻击。从2007年到2009年,中微接连遭遇来自国际巨头们的商业机密和专利侵权起诉。中微半导体都沉着应对,据理力争,最后的结果是中微半导体胜诉一起,另一起以“和解”结束。
目前中微半导体刻蚀设备零部件国产化率超过35%,已开发了20多个国内的反应器和系统主机加工等供应厂商,加工能力和质量达到了国际先进水平。
目前中微的竞争对手是国际占垄断地位仅有的三家超大公司。第一家,美国应用材料,2017财年销售额超过145亿美元,年研发经费接近18亿美元;第二家,美国泛林集团LAM,2017财年销售额超过95亿美元,年研发经费超过10亿美元;第三家,日本东京电子,2017财年销售额超过71亿美元,年研发经费超过7亿美元。
而2017年中微半导体全年营收仅仅10.95亿元,相较2016年增长73.80%。相比之下,中微半导体的营收还不足竞争对手研发经费的十分之一,而中微每年投入研发经费约在5000万美金左右,只有竞争的三十分之一,中微半导体处于极不对称的竞争地位。
但就是在这种不利情况下,中微半导体取得了傲人的成绩。截止2017年底,已经有620多个中微生产的刻蚀反应台运行在海内外39条先进生产线上,高质量地加工了5500多万片12英寸晶圆。在世界最先进的7纳米生产线上,中微是被验证合格、实现销售的全球五大刻蚀设备供应商之一。中微的刻蚀机设备技术已与世界最前沿水平比肩。
中微半导体的目标是:未来十年将持续开发新产品,扩大市场占有率,2020年营收达20亿元、2050年营收达50亿元,并进入国际五强半导体设备公司。