兴发集团黑磷中试进展带来的机会

任正非：未来世界二三十年内，一定会爆发一场重大的技术革命。这个革命的特征：黑磷\磷烯的出现，电子技术发生换代式的改变
研究发现黑磷很可能取代硅成为电子产品的主要材料，而且具有无法取代的优越性。这是因为厚度只有几个原子层的黑磷晶体具有二个关键属性，这二个关键属性可以满足人们对于更小型电子设备、更柔性电子器件、更快晶体管的追求。
一个属性是黑磷具有比硅更快的迁移率，通俗来讲就是携带电荷的速度可达到1000cm2/vs，就是每平方厘米每伏秒通过1000个电子。另外一个关键属性是黑磷有带隙（bandgap），这也是黑磷和石墨烯最大的差别也是黑磷最大的优点。正是因为石墨烯没有带隙，极大地限制了石墨烯的商业应用。石墨烯在自然 状态下带隙为零，像导体一样，即使在低温下也不能切断导电性，因此无法实现半导体 电位，无法应用于半导体领域。黑磷的带隙赋予了材料作为开关的能力，可以实现逻辑上的开和关，在存在于电场的情况下可以瞬间打开和关闭，充当半导体，带隙越小，在带隙上移动的电流就越强。黑磷还与硅相容，融合黑磷优越性能的硅光子元件一旦成功应用，各种芯片 类似于以光而非电子来传递数字信号，可以想象世界会发生怎样的变化。

兴发集团计划在两年内实现黑磷的产业化，并在两到三个应用领域实现大面积应用。